賓夕法尼亞州夸克敦2016年3月14日電 /美通社/ -- QuantumClean和ChemTrace將參加2016年3月15日至17日在上海的上海新國際博覽中心舉行的2016年SEMICON China貿(mào)易展，展位號為5154號。
依托領先的技術(shù)、資源和專長，QuantumClean成為了20nm以下超高純度半導體部件清洗能力方面的開拓者，致力于生產(chǎn)Atomically Clean Surfaces?制程腔體部件。
該行業(yè)對于更加清潔的制程腔體部件和加強管理的需求不斷加速發(fā)展。QuantumClean于2000年制定了其首個技術(shù)藍圖，即預測了這些趨勢并且確定了面向該行業(yè)日益變化的需求的解決方案。在接下來數(shù)年內(nèi)，QuantumClean的研發(fā)與工程團隊不斷提供面向業(yè)內(nèi)最具挑戰(zhàn)的部件清洗問題的創(chuàng)新型解決方案，從而在競爭中領先，并且該團隊近期制定了20納米以下的清洗協(xié)議。在參加2016年Semicon China貿(mào)易展期間，該公司期待與個體設備制造商、晶圓廠、原始設備制造商(OEM)和原部件制造商(OPM)分享其各種能力。
面向QuantumClean眾多領先的半導體實驗室、原始設備制造商和對清潔具有苛刻要求的原部件制造商客戶，ChemTrace提供制程工具部件清洗效果的獨立分析驗證服務。
ChemTrace銷售總監(jiān)Surjany Russell表示：“自我們于20世紀90年代末首次推出無損工具部件分析服務以來，ChemTrace的分析技術(shù)目前獲得了領先的設備制造商和原始設備制造商的廣泛認可，成為了分析測試技術(shù)方面的首選。我們將全球業(yè)務拓展至包括韓國、臺灣和新加坡的實驗室，這使地區(qū)客戶能直接使用我們的實驗室來進行較快周轉(zhuǎn)時間的分析?！?/p>
QuantumClean和ChemTrace的技術(shù)、商務和管理團隊將參加這次展會，并且希望有機會就當前與未來的部件清洗/翻新難題和分析要求探討各種解決方案。
