用于三星和格羅方德14納米鰭式場效晶體管
俄勒岡州威爾遜維2014年6月3日電 /美通社/ -- 繼三星電子和格羅方德 (GLOBALFOUNDRIES) 宣布一項戰(zhàn)略合作進行多源14納米鰭式場效晶體管制造之后，Mentor Graphics Corp. (NASDAQ: MENT) 今天透露，客戶將能夠使用相同的 Calibre® 平臺用于驗收驗證面向三星或格羅方德晶圓廠生產線的集成電路設計。通用性已經延伸至可制造性設計 (DFM) 評分，幫助客戶確保其設計得到充分優(yōu)化，能夠較大程度地利用先進的14納米鰭式場效晶體管制造工藝?！爸圃旆治龊驮u分”(MAS) 平臺可區(qū)分不同 DFM 效果的優(yōu)先次序，并針對如何更改設計以最小化這些影響提出建議。
(Photo： http://photos.prnewswire.com/prnh/20140317/AQ83812LOGO )
14納米鰭式場效晶體管的驗收包括用于雙重曝光設計規(guī)則檢查、版圖與原理圖對查比較、模式匹配驗證、光刻友好型設計以及先進填充制造設計的平臺。在14納米驗收套件中納入 DFM 評分平臺開了行業(yè)之先河，可確保一致的驗收環(huán)境。這是確?？蛻艄獞?zhàn)略的關鍵因素，只有通過全球多個供應源的真正設計兼容來實現。
14納米鰭式場效晶體管工藝由三星開發(fā)，授權給格羅方德，經過優(yōu)化適用于大容量節(jié)能系統(tǒng)芯片設計。其優(yōu)勢包括三維全空乏鰭式場效晶體管，能夠克服平面晶體管技術的局限性，與20納米平面技術相比，它的速度最多能提高20%，功耗減少35%，面積縮小15%。
三星電子晶圓代工營銷副總裁 Shawn Han 博士表示：“我們使用 Calibre 平臺作為我們設計規(guī)則手冊驗證的參考工具，因此 Calibre 平臺是我們客戶首先用到。由于 Calibre 是面向我們主要客戶的領先驗收工具之一，我們將有很大的信心保證他們的14納米鰭式場效晶體管設計在三星和格羅方德全球產能范圍內的任何一個晶圓廠都能用于生產?！?/p>
Calibre 平臺創(chuàng)造了分解式雙重曝光版圖，這符合三星所有的14納米光刻要求，并針對三星光罩合成和有機光導體工藝進行了調整，Mentor 也提供14納米工藝。它通過 Calibre 模式匹配為設計師提供了有關鰭式場效晶體管復雜設計規(guī)則的快速反饋，并通過 Calibre LFD? 產品提供詳細指導來消除 DFM 光刻錯誤，從而更快、更準確地修正違規(guī)行為。用于版圖與原理圖對查比較和萃取的 Calibre 工具已進行校正，來確保精確的設備和寄生模型用于三星鰭式場效晶體管。此外，Calibre SmartFill 可以實現平面化，同時通過智能放置填充結構來最小化時間問題。
Mentor Graphics“設計至硅片”(Design to Silicon) 部門副總裁兼總經理 Joseph Sawicki 表示：“我們非常高興參與這項新的多源協(xié)作，這可以幫助無晶圓廠半導體公司獲得鰭式場效晶體管技術，率先取得硅成功和供應保障。Calibre 平臺的開放和我們對于三星較新技術的強大規(guī)則平臺支持為無晶圓廠客戶提供了更多的選擇和靈活性，幫助他們保持在其目標設備市場的領先地位。”
了解有關 Mentor Graphics 與三星之間合作的更多信息，請光臨三星在6月2-4日舊金山設計自動化會議 (Design Automation Conference) 上的展位。具體日期和時間請參見 Mentor 和三星網站 (www.samsung.com/us/DAC2014)。
